日前，46所成功制备出HVPE氧化镓同质外延片，填补国内空白。

46所HVPE研发团队根据多年的HVPE技术基础，设计并搭建实验平台、调整流场结构和探究复杂的生长规律，经过不懈努力，突破了HVPE同质外延氧化镓过程中气相成核和外延层质量控制等难题，成功制备出氧化镓同质外延片样品，关键技术指标与国外先进水平相近。

氧化镓作为新型超宽禁带半导体材料，具有优良的物理化学特性，在高功率器件领域有着重要应用。虽然我国国内氧化镓体单晶制备技术已经取得了显著进步，但由于国内氧化镓外延厚膜技术仍存在空白，限制了氧化镓器件的发展。

46所作为目前国内首家掌握HVPE 氧化镓同质外延技术的科研单位，HVPE 氧化镓同质外延技术达到了国内领先水平，为相关器件研究提供了有力的技术支撑。