2021/6/1 15:43:46
数据来源：金十数据，其他自媒体
据悉，揖斐电株式会社（IBIDEN）在内的超过20家日本企业将加入一个大计划：通过与台积电展开合作，维持日本在全球半导体领域中的份额。
据日本财务省披露的数据，4月份日本对华出口半导体器件23.87亿个，同比增加16%；对华出口半导体制造设备8606个，更是同比大增67.2%，出口总额高达1403亿日元（约合人民币83亿元）。
2020年我国进口了价值3800亿美元（约合人民币2.4万亿元）的芯片。
2021年5月，日本光刻胶供应商“信越化学”停止对大陆半导体厂商提供KrF光刻胶。日芯半导体对此做出解释：“之所以向大陆半导体停供KrF光刻胶，是因为KrF光刻胶的产能有限”。为了均衡全球半导体芯片的发展，日本决定限制对大陆一线晶圆厂KrF光刻胶的供给。(SiSC：很扎心但又是事实，又一个不由自主的供应链）
业内人士称，信越化学之所以停止供货部分晶圆厂KrF光刻胶，与今年2月日本福岛发生地震有关。地震导致信越化学KrF光刻胶产线受到很大程度破坏，至今尚未完全恢复生产。此外，在地震前，KrF光刻胶的产能供应就较为紧张。“全球晶圆代工产能一直扩充，光刻胶市场虽然也在保持稳定增长，但实际产能开出并未与晶圆厂形成匹配。”产能不足叠加天灾，海外光刻胶告急，在当前中国晶圆制造厂大力扩充产能的背景下，更是牵动业界神经。
光刻胶大事小情
日本厂商如日本合成橡胶、东京应化、信越化学等在g线/i线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶市场中市占率分别为61%、80%、93%。而中国适用于6英寸硅片的g线和i线光刻胶自给率约为20%，适用于8英寸硅片的KrF光刻胶自给率不足5%，适用于12英寸硅片的ArF光刻胶目前仍然是完全要靠进口。
据悉，本次产能大缺货的是，KrF光刻胶（248nm）适用于250nm~130nm工艺，ArF光刻胶（193nm干法）适用于130nm~65nm工艺，ArF光刻胶（193nm沉浸法）适用于65nm~7nm工艺，也正是目前中国国内众多晶圆厂所使用的工艺。
作为光刻工艺过程中的关键原材料，半导体光刻胶质量和性能对光刻工艺有着重要影响，因其技术壁垒高而长期被海外大厂所主导，成为半导体国产化一道大坎。据日本厂商如日本合成橡胶、东京应化、信越化学等在g线/i线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶市场中市占率分别为61%、80%、93%。而中国适用于6英寸硅片的g线和i线光刻胶自给率约为20%，适用于8英寸硅片的KrF光刻胶自给率不足5%，适用于12英寸硅片的ArF光刻胶目前仍然是完全要靠进口。
据悉，本次产能大缺货的是，KrF光刻胶（248nm）适用于250nm~130nm工艺，ArF光刻胶（193nm干法）适用于130nm~65nm工艺，ArFi光刻胶（193nm沉浸法）适用于65nm~7nm工艺，中国晶圆厂所需。
国内光刻胶厂商现状
（新闻链接：南大光电：已建成2条ArF光刻胶生产线）
国内光刻胶领域已有代表企业集中力量攻克高端光刻胶产业化。以晶瑞股份为例，1月19日，晶瑞发布公告称已从ASML购入ArF浸入式光刻机一台，将主要用于研发国产高端光刻胶。据悉，此次购入的光刻机可研发最高分辨率达28nm的高端光刻胶，并作为晶瑞未来三年研发重点。至于KrF光刻胶？目前已完成中试，正在加快推进相关产品下游客户验证，未来几年有望实现量产导入。
国内还有另一家半导体光刻胶上市公司是南大光电。在去年12月，南大光电完成国内首条ArF光刻胶产线投产。在今年5月业绩说明会上，南大光电表示，其ArF光刻胶产品开发和产业化项目已完成25吨光刻胶生产线建设，主要先进光刻设备，其中就如ASML浸没式光刻机，均已完成安装并投入使用。且不存在被卡风险。
此外，南大光电还于5月23日公告拟募资不超过6.13亿元，其中的1.5亿元计划用于光刻胶项目。预计项目达产后，将新增年产ArF光刻胶25吨、显影液350吨、光刻胶配套高纯试剂（对外销售）20吨及三氟化氮年产2000吨产能。
彤程新材作为目前国内唯一家能够供应KrF光刻胶的厂商，已从去年开始就已大量导入国内多家晶圆厂。行业人士称，在信越化学发出停供通知后，国内多家晶圆厂正在加速验证彤程新材旗下子公司北京科华KrF光刻胶。目前，北京科华KrF光刻胶正在快速起量导入客户，随着公司明年KrF光刻胶产能逐渐释放出来，将会加速覆盖国内多家晶圆厂8、英寸、12英寸产线。
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