来源：科技核心观

虽然将会有更多用于EUV光刻的光刻胶制造商。但是目前这个市场是日本公司垄断的。

目前只有两家芯片制造商掌握了使用EUV极紫外线辐射光刻的半导体光刻技术，但是毫无疑问，这就是光刻技术的未来。

与任何未来一样，它为一些光刻材料市场开拓者提供了在新市场中建立自己的机会。尤其是目前由两家日本公司生产使用EUV光刻机所使用的技术处理材料，而其中一家是著名的Fujifilm富士胶片公司。

富士胶片控股公司和住友化学将在2021年开始为下一代芯片提供光刻材料，这可能有助于减小智能手机和其他设备的芯片尺寸，并使它们更加节能。这款材料主要作为光致抗蚀剂的供应，在硅晶体的蚀刻中起主要作用。

日本公司早已抓住了光刻胶的供应。例如，两家日本公司JSR和信越化学，它们主要供应用于控制EUV光刻机的光刻胶，EUV光刻机占光刻机市场的90％。这种实际上的垄断地位甚至使日本可以通过这种材料的供应来限制韩国，这个情况已经在一年前的芯片市场上发生过。幸运的是，一切都解决了。

因此富士和住友化学提供用于EUV光刻的光刻胶将进一步缓解这种情况，尽管它们也都是日本公司。

富士胶片正在投资45亿日元（4260万美元），在东京西南的静冈县装备一家制造厂，明年开始批量生产光刻胶。根据公司代表的说法，其光致抗蚀剂会在硅上留下最少量的残留材料，从而大大降低了芯片缺陷的可能性。

住友化学将在2022财年初完成大阪工厂的所有光刻胶产能（从设计到生产）。但是它作为193nm扫描仪光刻胶的供应商已经和某家知名制造商提前签署了未来产品的合同，可能是为台积电供货。

未来，用于3nm技术工艺的光致抗蚀剂生产问题将变得很重要，因为许多原因，现代光致抗蚀剂不适合使用。EUV技术需要使用独特的光刻胶，并且工艺技术越小，这对光刻胶的要求就越高。

据2020年10月消息：因应5G、数据中心用半导体需求攀升，日本信越化学工业（Shin-Etsu Chemical）传出将在台湾盖新厂，将半导体材料“光阻剂”产能提高5成，且因来自台积电的订单增加，信越化学也将开始利用台湾工厂生产“极紫外光（EUV）”用光阻剂。

信越化学计划在台湾云林县工厂及日本直江津工厂内兴建光阻剂新厂房，预估将分别于2021年2月、2022年2月左右激活生产，借此将台湾产能提高5成、日本提高2成，预估总投资额约300亿日元。

报道指出，信越化学也将开始利用台湾工厂生产使用于先进半导体生产技术“极紫外光（EUV）”的光阻剂。信越化学目前仅利用日本工厂生产EUV用光阻剂，不过因来自台积电等客户的订单增加，因此将扩大供应网络，追加于台湾工厂生产EUV用光阻剂。

据日本市调机构富士经济指出，2024年全球光阻剂市场规模预估约2,500亿日元，将较2019年增加6成。在全球光阻剂市场上，日系厂商掌控约8成市场占有率，其中信越化学市场占有率达2-3成。

富士胶片（Fujifilm）、住友化学（Sumitomo Chemical）日前也传出将进军EUV用光阻剂市场。