2020/4/6 16:01:07
自从原子层沉积(ALD)超高纯(UHP)阀门技术推向市场以来，Swagelok一直与半导体设备厂商和芯片厂商合作，为对方提供可满足工艺变化所需的高性能产品。新型UHP ALD20阀门因应而生，有助于工艺设计人员可以灵活地进行低蒸气压化学实验，而这些化学物质可能是未来竞争优势的关键。
ALD20的流量系数是标准ALD阀门的2~3倍，最高达1.2Cv，占地1.5英寸，可最大限度提高生产工艺效率和沉积一致性。另一版ALD20阀门占地1.75英寸，流量高达1.7Cv。当然厂家还提供可自行设置流量系数的产品。
ALD20阀门专为实现峰值工艺一致性而设计的，可完全浸没在10℃至200℃的气箱中，从而增强了热稳定性和ALD沉积均匀性。阀体由316L VIM-VAR不锈钢或哈式22合金制成，耐腐蚀性强可承受腐蚀性介质；另采用高度抛光的5μin波纹管，Ra光洁度支持清洁作业，可实现长期的工艺完整性。
Swagelok市场营销总监Garrick Joseph表示，ALD20是公司通过与业内领导者以及流体系统工程专家的紧密合作强势推向市场的，允许客户有效地使用前驱气体，这种以前被认为可能应用难度太大或成本太高的化学物质，无疑对下一代芯片技术的发展至关重要。
ALD20的模块化表面安装配置带有2~3个端口，带卡套管对焊和外螺纹或内螺纹VCR®面密封端接的直通配置以及多孔口阀配置，以优化现有或新系统中的流路。高温光学位置传感器同样可作为附加组件提供。
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