随着超纯水（UPW）不断上升 的成本以及对日益加剧的水源短缺，许多国家和公司正在采用新的可持续发展法律、政策和法规。各国政府正在推动半导体晶圆厂和晶圆代工厂回收超过85%的废水。

半导体制造中需要大量的超纯水和化学品，其过程也会产生大量的废水。当半导体制造商购买价值 1 美元的水，除了需要 20 美元使其水平达到超纯水的质量，也需要 10 美元来处理过程中的排放。随着生产电子产品的需求和成本的增长，半导体制造商面临着实施和改进废水回收，废水再循环和废水再利用过程的挑战。

下载这本白皮书来了解如何通过连续，实时测量和控制 的电导率和总有机碳 （TOC）帮助您高效的监测废水流，从而提高水源回收率。

一家世界领先的半导体制造商需要一种能够超越当前市面上仪器性能的电阻率传感器。梅特勒托利多 Thornton 与该制造商合作开发了一款传感器，为电阻率测量树立了新标准。

制造商严格要求提高良率，因此需要达到远远超过当前行业标准的电阻率测量稳定性和准确性水平。该制造商与梅特勒托利多合作寻找解决方案。其结果是UPW UniCond™，这是新款电阻率传感器，它在温度补偿、信号稳定性和环境干扰隔绝性能大幅优于之前用户使用的设备。基于非常成功的测试结果，制造商已接受UPW Unicond作为其新的电阻率测量解决方案，并指定其全球所有工厂在升级或设计新晶圆厂时都使用新款传感器。

要了解有关制造商执行的测试和结果的更多信息，请阅读案例研究。

Park希望通过这本AFM用户手册可以帮助研究人员更好地制备样品并获得助力大家科学研究的高清AFM成果。

本手册根据Park原子力显微镜工程师们和研究员们的AFM 样品测量经验杜撰而成，并在手册中对常用样品和测量环境进行了提及。

如果您所用的样品没有在此手册中被提及，或者您想要了解更多关于样品制备的相关信息，请联系Park应用组咨询 (marcom@parksystems.com)。

颗粒测量是对样品中的颗粒进行计数和筛分的过程，可对空气或液体进行测量。此技术在半导体晶圆制造等 工业制程工艺中非常重要，流体的高纯度是其中的一项要求，如果存在颗粒污染物，则会导致产品报废或系 统损坏。

目前的检测技术包括破坏性检测和无损检测。 破坏性检测只能对每个部件的样品进行测试，并最终破坏零件。 无损检测可检测每一个部件，包括光学检测和电气试验等选项。 光学检测和电气试验虽然有帮助，但对于预防和减轻电子产品故障所需的全面检测，它们还不够。 如今有许多可用的新一代方法，如微纳米聚焦X射线解决方案，可提供全面的电子产品质量检测解决方案，同时可确保IPC 1、2或3类的符合性以及按照FFR指南进行制造。 因此，制造商可确保零件中没有限制功能的空隙、异物和缺陷，并在关键接合点（如焊点）进行高精度检测，以全方位验证零件完整性和符合要求的电气性能，同时最大限度地提高生产良率。

仅依赖光学检测和电气试验会给公共安全、生产利润、品牌声誉和法规符合性带来不必要的风险。 目前光学检测和电气试验不足以作完整检测技术使用。 采用微米聚焦和纳米聚焦X射线解决方案有助于电子产品制造商确保安全，实现法规符合性，并在电子产品、半导体和电池的生产中创建可持续提高质量的商业模式。这些新的检测解决方案是未来趋势，可帮助我们确保随着电子产品的使用和成熟，不断提高安全性，让用户放心使用。