来源：Silicon Semiconductor

SkyWater位于明尼苏达的工厂旨在拥有世界上最先进的200毫米光刻技术。

SkyWater Technology已从 Multibeam Corp. 获得首款用于批量生产的多柱电子束光刻 (MEBL) 系统。Multibeam (MB) 平台是半导体行业的里程碑，它提供了一种高吞吐量直接写入图案化系统，其速度比传统电子束设备快几个数量级，生产效率更高。MB 系统将提供给 SkyWater 客户进行早期概念原型设计和快速生产。

“很高兴能通过 Multibeam 革命性技术为客户提供新的光刻功能。MB 平台的部署将为安全防御、生物医学、热成像、高可靠性和高级计算市场中从概念到生产的创新者拓展能力并缩短产品上市时间。”

MEBL 为 SkyWater 的客户提供多项新的生产能力，包括用于防伪应用的安全芯片 ID 和全晶圆图案化，可支持焦平面读取 IC 和其他类型的大尺寸芯片。MEBL 还为一系列高拓扑微流体和 MEMS 架构、光子学曲线设计和高密度 MOS 提供大聚焦深度。此外，它是唯一能够在 200 毫米晶圆上实现 50 纳米以下几何形状的生产光刻设备。

MB 平台创新配置了多个小型化电子束柱，将电子束光刻 (EBL) 提升为突破性的无掩模光刻生产系统，为当今的 IC 晶圆厂带来了卓越的性能和成本优势。首套 Multibeam 系统的交付是过去两年来与 SkyWater 密切合作的结果。此次合作还提供了关键晶圆厂的运营洞察，在将 MB 平台交付给 SkyWater 之前，这些运营洞察是用来定义关键系统的性能规格。

Multibeam 董事长兼首席执行官 David K. Lam 博士表示：“这对 Multibeam 来说是一个重要的里程碑，我们非常自豪能与 SkyWater 分享这一里程碑。从我们与 SkyWater 合作之初，他们就支持我们重新创新 EBL 以实现大批量生产的目标，并提供了关键的用户观点，帮助我们加速开发计划并商业化世界一流的无掩模光刻系统。非常感谢与其合作，很高兴能将我们的第一个生产设备配置在 SkyWater 晶圆厂。”

SkyWater 首席执行官兼董事 Thomas Sonderman 强调了这项技术对目标增长市场客户的价值，“我们很高兴能够借助 Multibeam 革命性的技术为客户提供新的光刻功能。MB 平台的部署将帮助安全防御、生物医学、热成像、高可靠性和高级计算市场中从概念到生产的创新者拓展能力并缩短上市时间。”

Sonderman 补充道：“我们与 Multibeam 的合作，体现了合作伙伴关系在开发突破性设备，加速美国芯片创新方面的力量，并借此让 SkyWater 位于明尼苏达州的工厂拥有了世界上最先进的 200 毫米光刻技术。”

SkyWater 将在2024年第四季度提供对为设备首批客户设计的访问权限。

原文链接：

https://siliconsemiconductor.net/article/119867/SkyWater_invests_in_MEBL

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