2022/4/20 10:29:14
来源: 证券时报
4月20日,拓荆科技股份有限公司(688072)正式登陆上海证券交易所科创板。
作为高端半导体专用设备企业,拓荆科技一直秉持自主创新发展,凭借一系列独创性的设计,完善的知识产权体系,以及达到国际先进水平的核心技术,公司已在国际市场展露头脚。拓荆科技表示,此次发行上市,是公司发展史上的一个重要里程碑,公司将借助资本市场这一平台,全面提升公司综合实力和公司价值,实现投资者利益最大化。
国产替代化浪潮,有望比肩国际寡头
拓荆科技成立于2010年4月,是我国高端半导体设备的领军企业。公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成晶圆制造三大核心设备,也是目前国内唯一一家产业化应用的集成电路PECVD、SACVD设备厂商。
依靠核心技术,拓荆科技一举突破欧美及日本企业对同类产品的长期垄断,实现了集成电路领域核心设备的自主可控,增强了我国集成电路产业供应链的自主可控能力。
目前,拓荆科技的产品已广泛应用于中芯国际、华虹集团、长江存储、长鑫存储、厦门联芯、燕东微电子等国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线,在不同种类芯片制造产线的多道工艺中得到商业化应用,同时公司已展开10nm及以下制程产品验证测试,公司在研产品已发往国际领先晶圆厂参与其先进制程工艺研发。
在国产替代化浪潮下,拓荆科技凭借已达到国际先进水平的研发及产业化核心技术,有望率先受益,并成为比肩国际寡头的企业之一。
国家顶层助力,专注研发打破技术垄断
在半导体设备领域,拓荆科技是各方资金关注青睐的重要企业。国家集成电路基金、国投上海等先后成为拓荆科技的重要股东。
依托行业政策利好,以及巨大的市场空间,拓荆科技不断投入研发、吸引半导体人才,逐步补齐半导体制造端的短板。2018年-2021年9月,拓荆科技分别投入研发投入10,797.31万元、7,431.8万元、12,278.18万元和12,955.63万元,分别占各期营业收入的152.84%、29.58%、28.19%和34.65%。据悉,拓荆科技已建成了我国首个半导体薄膜设备生产基地,总建筑面积40,000平方米,包括研发及生产用十级,百级和千级无尘洁净间。
凭借长期的技术研发和工艺积累,拓荆科技成为较早打破国际巨头技术垄断局面的企业。公司100%自主知识产权研制的PECVD设备,是国内唯一能够应用于大规模集成电路生产线的12英寸全自动PEVCD设备,已用于28nm的集成电路的批量生产,同时具有14-10nm的技术的延展性,产品性能指标表现达到了世界先进水平。
募集资金提高技术研发投入,助力产业链发展
拓荆科技作为自主创新的半导体设备供应商,为进一步提高技术先进性,丰富设备种类,拓展技术应用领域,提升市场占有率,开发台湾市场,公司拟借助资本力量,募集资金用于高端半导体设备扩产、先进半导体设备的技术研发与改进,以及ALD设备研发与产业化等项目。
按照发展规划,公司将开展配适10nm以下制程的PECVD产品研发;开发Thermal ALD 和大腔室PE ALD;同时升级SACVD设备,研发12英寸满足28nm以下制程工艺需要的SACVD设备。
在加强产品技术研发的同时,拓荆科技还将逐步培养和完善国内相关产业链。通过与国内供应商的深度合作与磨合,推动设备关键部件的国产化开发及验证,提高设备零部件的国产化率。此外,公司还将利用国产设备厂商的综合优势,为客户提供定向的技术开发与服务,以此助力半导体产业链发展,保障产业链的技术先进性。
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