超纯水（UPW）是半导体生产过程中最重要的元素之一，主要用于制备工艺化学溶液、晶圆清洗和浸没式光刻。半导体晶圆在加工过程中暴露于超纯水中，因此，超纯水质量对晶圆生产工艺和产品良率有重要影响。随着半导体行业的快速发展和对生产工艺的升级，对超纯水的各项指标要求也不断地提高。

UPW创新方案实现超纯水指标（硼）小于1ppt

近日，Exyte（益科德）中国的UPW创新方案获得由上海虹桥临空经济示范区颁发的“科创之星”奖。此奖项认可了Exyte在超纯水技术领域获得的科技成就，在其负责的半导体项目中，Exyte与合作伙伴一起为客户实现了超纯水指标（硼）小于1ppt目标，高于目前行业小于30ppt的标准，此技术指标首次实现于国内半导体项目中，为产业的发展注入新动力。

图：Maheswaran Nair (Exyte中国工程工艺部经理) 领取奖项

Exyte作为项目EPC （工程总包）方，在项目规划设计之初，就根据客户的要求，制定了超纯水硼小于1ppt的指标，这也是首次应用于中国半导体项目的纯水系统，它需要创新和升级的工艺设计，并结合在采购、施工和调试阶段的丰富经验和高水平的项目管理能力。

“科创之星”申请人需满足一系列严苛条件，如行业领域知名度、申报项目和课题的专业性、企业自身对于科技创新的文化和氛围，等等。

“半导体这个行业对于超纯水水质有着苛刻的要求，我们积极地与客户、供应商合作，结合目前的应用科学，开发出高度创新的解决方案并取得成功。”Exyte东北亚区工程总监Arend Suhr表示，“‘科创之星’奖是对我们Exyte中国技术团队解决具有挑战性的设施和创新工作的高度认可。”