新闻 |
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5nm及以下节点的多重曝光工艺有这些 |
过去几十年,芯片制造商一直使用193nm波长的ArF深紫外(DUV)光刻技术来生产芯片,进入7nm、5nm时代后,则需要采用多重曝光才能满足要求... |
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北斗22nm芯片将领先GPS两代工艺 |
国科微表示最新的22nm支持双频双模的北斗导航定位芯片已完成各项关键性能的验证,有望明年上半年量产。此前北斗星通还展示了全球首颗22nm... |
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科锐正在建造全球最大SiC器件制造厂 |
科锐正在推进从硅向碳化硅的产业转型。为了满足客户对于Wolfspeed技术日益增长的新需求,以支持电动汽车 (EV)、4G/5G 通信和工业市场的不... |
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